行业趋势:传统刻蚀遇到瓶颈,步进式成为主流2022-06-13
●5μm线宽下传统刻蚀难以为继;现在先进封装已经进入1μm线宽时代●光刻技术是影响先进封装工艺品质的关键因素之一, 目前,用于先进
●5μm线宽下传统刻蚀难以为继;现在先进封装已经进入1μm线宽时代●光刻技术是影响先进封装工艺品质的关键因素之一, 目前,用于先进
➢在半 导体封装测试的分类当中可以分成传统封装以及先进封装两大类:传统封装主要为Lead Frame base Wire-Bonding的PGA LGA BGA, SIP,
集成电路技术按照摩尔定律飞速发展,封装技术突飞猛进。特别是进入2010年后,晶圆级封装(WLP Wafer LevelPackage)、硅通孔技术(TS