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核心技术-镜头
●光刻机的核心是镜头
●可处理50μm的翘曲
●未来将把镜头技术转移至落地企业,并在落地企业生产镜头。
拥有全球无可比拟半导体高景深1:1反射式镜头 制 造 技 术 , 可 达 0.5
μm
, 线 宽,1:10深宽比。
自有已商用化镜头技术,不依赖德国/日 本/美国镜头来生产的投影式光刻机生产商。
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